台湾最大CVD/ALD材料制造商

全球少数具备从前段(合成/纯化/分析)制程整合至后段(装填包装/容器制造/阀件维修)完整技术服务的高科技CVD/ALD先进材料公司。

南美特提供半导体客户优质之化学气相沉积材料（CVD/ALD Precursors)，包含最先进之 high k 及 low k dielectrics 材料，并配合其需求进行客制化合成，纯化及包装，以提高其制程良率。

客制化钢瓶/液位计

南美特可客制化修改钢瓶尺寸以迎合客户安全与各类钢瓶需求；南美特提供各类开发设计钢瓶液位侦测(液位计)以协助客户即时监测液位，已通过美国与台湾之专利。

液体传输系统／过滤器

南美特代理 Wonik-IPS 之液体传输系统 LDS i-Chem T20 及
i-Chem T-50 机台及 MSP 之过滤器 VPG-A6 及 VPG-A3 以提供客户全面性产品线及即时之技术服务。

阀件、管件清洗服务

Cost Down 的最佳途径

南美特利用多年研发经验发展出一套溶剂清洁管线技术以改善设备定期维护效率；并提供阀件、管件清洗服务以进一步替客户有效地大幅降低耗材成本。

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产品特点

南美特于1998年正式进驻于高雄楠梓加工区(目前更名为:楠梓科技产业园区)，为台湾致力于发展半导体化学气相沉积材料的公司，专业研发及制造各种先进 CVD/ALD (Chemical Vapor Deposition /Atomic Layer Deposition )化学气相沉积材料，是全球少数能提供从前段﹝合成，纯化，分析﹞制程整合至后段﹝装填包装，容器制造，技术服务﹞的高科技先进材料公司。

历经20余年之研发创新，产品早已获得国际半导体制造公司的品质认同及采用，在国际大厂环伺的半导体材料市场亦已占有相当之份额。目前客户群已横跨亚洲、美洲并逐步扩展全球市场。为整合客户需求，南美特提供下列的产品及服务：

* 化学气相沉积材料 (CVD/ALD Precursors)
* 液体传输系统 (Liquid Delivery System)
* 先驱体滤材
* 液位侦测系统
* 材料及钢瓶之设计开发服务
* 阀件清洗回收

产品

询价

应用

产品名称

Dielectrics PMD / IMD

• TEOS / TEPO / TMPO / TEB / TMB

Low K Dielectrics

• 4MS / OMCTS / DMDMOS

High K Dielectrics

• TAETO (Ta2O5 Precursor )
• TEMAH / HfCl4 (ALD HfO2 Precursor )
• TEMAZ (ALD ZrO2 Precursor)
• TMA (Al2O3 Precursor)

Metal Gate and Interconnect Metal

• TDMAT ( TiN Precursor )
• TiCl4 ( Ti /TiN Precursor )
• PDMAT ( TaN Precursor)
• CCTBA (Co Precursor )
• TMA ( Al Precursor )

Low-Temp Nitride / Oxide

• HCDS / 3DMAS / BTBAS

Dopants

• Trans DCE

SAM Coating

• FDTS / BTCSE / DI Water