台灣最大CVD/ALD材料製造商

全球少數具備從前段(合成/純化/分析)製程整合至後段(裝填包裝/容器製造/閥件維修)完整技術服務的高科技CVD/ALD先進材料公司。

南美特提供半導體客戶優質之化學氣相沉積材料（CVD/ALD Precursors)，包含最先進之 high k 及 low k dielectrics 材料，並配合其需求進行客製化合成，純化及包裝，以提高其製程良率。

客製化鋼瓶/液位計

南美特可客製化修改鋼瓶尺寸以迎合客戶安全與各類鋼瓶需求；南美特提供各類開發設計鋼瓶液位偵測(液位計)以協助客戶即時監測液位，已通過美國台灣之專利。

液體傳輸系統／過濾器

南美特代理 Wonik-IPS 之液體傳輸系統 LDS i-Chem T20 及
i-Chem T-50 機台及 MSP 之過濾器 VPG-A6 及 VPG-A3 以提供客戶全面性產品線及即時之技術服務。

閥件、管件清洗服務

Cost Down 的最佳途徑

南美特利用多年研發經驗發展出一套溶劑清潔管線技術以改善設備定期維護效率；並提供閥件、管件清洗服務以進一步替客戶有效地大幅降低耗材成本。

詳情


產品特點

南美特於1998年正式進駐於高雄楠梓加工區(目前更名為:楠梓科技產業園區)，為台灣致力於發展半導體化學氣相沉積材料的本土公司，專業研發及製造各種先進 CVD/ALD (Chemical Vapor Deposition /Atomic Layer Deposition )化學氣相沉積材料，是全球少數能提供從前段﹝合成，純化，分析﹞製程整合至後段﹝裝填包裝，容器製造，技術服務﹞的高科技先進材料公司。

歷經20餘年之研發創新，產品早已獲得國際半導體製造公司的品質認同及採用，在國際大廠環伺的半導體材料市場亦已佔有相當之份額。目前客戶群已橫跨亞洲、美洲並逐步擴展全球市場。為整合客戶需求，南美特提供下列的產品及服務：

* 化學氣相沉積材料 (CVD/ALD Precursors)
* 液體傳輸系統 (Liquid Delivery System)
* 先驅體濾材
* 液位偵測系統
* 材料及鋼瓶之設計開發服務
* 閥件清洗回收

產品

詢價

應用

產品名稱

Dielectrics PMD / IMD

• TEOS / TEPO / TMPO / TEB / TMB

Low K Dielectrics

• 4MS / OMCTS / DMDMOS

High K Dielectrics

• TAETO (Ta2O5 Precursor )
• TEMAH / HfCl4 (ALD HfO2 Precursor )
• TEMAZ (ALD ZrO2 Precursor)
• TMA (Al2O3 Precursor)

Metal Gate and Interconnect Metal

• TDMAT ( TiN Precursor )
• TiCl4 ( Ti /TiN Precursor )
• PDMAT ( TaN Precursor)
• CCTBA (Co Precursor )
• TMA ( Al Precursor )

Low-Temp Nitride / Oxide

• HCDS / 3DMAS / BTBAS

Dopants

• Trans DCE

SAM Coating

• FDTS / BTCSE / DI Water